1、Ti2-E倒置荧光显微镜,电动载物台。
2、LED光源,添加DAPI, GFP,TRITC,Cy5四种滤块。
3、sCMOS 相机。4倍物镜 N.A.=0.20, W.D.20.00、10倍物镜N.A. 0.45, W.D. 4.0 mm 、20倍Corr. 0-2.0mm物镜, N.A. 0.45, W.D. 8.2-6.9mm。
4、非接触式、无掩模UV投射:可灵活控制UV的照射强度、照射时间和照射区域对基质进行蚀刻、切割和固化。
5、适用于多种基质:使用任意一个常规的细胞基,如:玻璃盖玻片、塑料培养皿、PDMS)、水凝胶、光刻胶等。
6、蚀刻高分辨率:全视野分辨率为1.2µm( 500×300µm ,20倍物镜)。
7、蚀刻速度快:完成整个视野中的图案(500×300µm,20倍物镜),仅需0.5s。